JSR自1979年4月开始销售光刻胶以来，以满足半导体行业的需求为宗旨，40多年来

不断的向全球客户提供光刻材料、CMP材料和封装材料。

我们提供如下型号的光刻胶产品：WPR-5100/THB-151N/111/126/806等型号

JSR WPR-5100

- **深硅刻蚀光刻胶

- **特点**：耐高温、粘附性好，适用于深硅刻蚀工艺。

JSR-151N**

- **类型**：正胶

- **特性**：粘度系数2800cp，适用于半导体制造工艺。

JSR-111**

- **类型**：二氧化硅基光刻胶

- **特点**：高分辨率、宽光谱适应性，适用于存储器芯片、逻辑芯片和光通信芯片制造。